Die drei Unternehmen der Busch Group (Busch Vacuum Solutions, Pfeiffer Vacuum und centrotherm clean solutions) stellen gemeinsam auf der Messe Semicon West 2024 aus. Dies ist ein wichtiger Meilenstein, da es der erste gemeinsame Messeauftritt der Busch Group in den USA ist. Besucher:innen der Semicon West dürfen sich auf eindrucksvolle Präsentationen über Vakuumtechnologie und Abgasreinigungssysteme freuen, die zur Unterstützung der Halbleiter-Fabs und Sub-Fabs dienen. Die diesjährige Standbotschaft der Busch Group lautet „Ultimate Product Range“ und „Total Fab Solutions“. Turgay Ozan, Geschäftsführer von Busch Vacuum Solutions und Pfeiffer Vacuum in den USA, erläutert: „Wir sind als führender Partner für Komplettlösungen in der Halbleiterindustrie einzigartig aufgestellt. Unsere umfangreiche Produktpalette bietet Unterstützung von Reinräumen bis zur Sub-Fab. Sie umfasst Abgasreinigungssysteme, Vakuumpumpen, Kontaminationsmanagement, Lecksuche, Ventile, Sub-Fab Management und den Service für alle Marken.“
Lecksucher ASM 392
Der ASM 392 von Pfeiffer Vacuum ist Semi-S2-konform. Mit seiner integrierten Turbomolekular-Vakuumpumpe für schnelle Evakuierung und kurze Ansprechzeiten eignet er sich optimal für große Prüfobjekte. Dank seiner ölfreien und berührungslos arbeitenden Vorpumpe zusammen mit der leistungsstarken Hochvakuumpumpe ist er für Prüfungen in Reinraumumgebungen ideal.
Elektroventile Series E
Erstmals auf einer Messe wird die neue Series E von Pfeiffer Vacuum präsentiert: ein für die einfache Integration in Hochvakuumanwendungen entwickeltes elektrisches Eckventil. Die Series E vereint die fortschrittliche elektrische Betätigung mit Energieeffizienz. Die Ventile bietet dadurch eine hervorragende Steuerung, Zuverlässigkeit und Kosteneinsparungen.
Turbopumpe ATH 2804 M
Mit ihrer geringen Baugröße bietet die magnetgelagerte Turbopumpe ATH 2804 M von Pfeiffer Vacuum einen hohen Gasdurchsatz und eignet sich perfekt für Prozesse in der Halbleiterfertigung.
Turbopumpe HiPace 3400 IT
Die HiPace 3400 IT wurde speziell für anspruchsvolle Anwendungen der Ionenimplantation entwickelt und setzt als kompakteste Turbopumpe ihrer Klasse Maßstäbe. Die Flanschgröße DN 320 erhöht das Saugvermögen für Prozessgase um 30 Prozent. Ihr einzigartiges Lagerkonzept und die beschichtete Rotor-Konstruktion schützt sowohl das Verfahren als auch die Pumpe und bietet Langlebigkeit sowie Zuverlässigkeit.
Ölfreie Pumpen TORRI BD 0100/0600
TORRI BD von Busch Vacuum Solutions bieten kurze Abpumpzeiten für Schleusenkammern. Sie gehören zu den kleinsten, leichtesten und energieeffizientesten ölfreien mehrstufigen Drehkolben-Vakuumpumpen auf dem Markt.
Thermisches Abgasreinigungssystem CT-TW‑H
Die Technologie von centrotherm clean solutions kombiniert die Vorteile der Verbrennung mit dem elektrisch beheizten Konzept der Abluftbehandlung. Dies führt zu geringeren Betriebskosten und weniger Sekundäremissionen. Das CT-TW‑H kann das molekulare Prozessgas NF3 mit hoher Abscheideeffizienz und extrem niedrigen NOx-Emissionen zerstören. Damit bietet das System eine nachhaltige Lösung mit minimalem CO₂-Fußabdruck für die CVD- und Metallätzverfahren.
Besucher:innen der Semicon West können sich vom 9. bis 11. Juli 2024 am Stand 733 in der Südhalle des Moscone Center in San Francisco mit Experten von Busch Vacuum Solutions, Pfeiffer Vacuum und centrotherm clean solutions austauschen.
