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Home Top-Thema Chemie

Dosier-Tech­no­lo­gie sichert Effizienz

12. September 2018
in Chemie, Messen
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Die Coperion Seitenbeschickung ZS-B mit patentierter Feed Enhancement Technology (FET) steigert das Material-Aufnahmevermögen bei der Verarbeitung einzugsbegrenzter Produkte um das bis zu Dreifache.

Die Coperion Seitenbeschickung ZS-B mit patentierter Feed Enhancement Technology (FET) steigert das Material-Aufnahmevermögen bei der Verarbeitung einzugsbegrenzter Produkte um das bis zu Dreifache. (Bild: Coperion)

Auf der Faku­ma 2018 (16.–20. Okto­ber 2018) prä­sen­tie­ren Cope­ri­on und Cope­ri­on K‑Tron auf ihrem Mes­se­stand A6-6205 in Hal­le A6 hoch­wer­ti­ge und zuver­läs­si­ge Tech­no­lo­gien für die Kunst­stoff­ver­ar­bei­tung. Im Mit­tel­punkt ste­hen Lösun­gen für das effi­zi­en­te Ein­brin­gen von Schütt­gü­tern in den Com­po­un­dier­pro­zess. Das Unter­neh­men stellt die für die Zufüh­rung von Roh­stof­fen in zahl­rei­chen Pro­zes­sen ein­ge­setz­te Sei­ten­be­schi­ckung ZS‑B mit paten­tier­ter Feed Enhan­ce­ment Tech­no­lo­gie (FET) vor, die das Mate­ri­al-Auf­nah­me­ver­mö­gen bei der Ver­ar­bei­tung ein­zugs­be­grenz­ter Pro­duk­te um das bis zu Drei­fa­che stei­gern kann. Für die ver­bes­ser­te Dosier­ge­nau­ig­keit von Dif­fe­ren­ti­al­do­sie­rern in geschlos­se­nen Sys­te­men zeigt Cope­ri­on K‑Tron die ein­zig­ar­ti­ge elek­tro­ni­sche Druck­kom­pen­sa­ti­ons-Lösung EPC.

Durch­satz­stei­ge­run­gen durch Feed Enhan­ce­ment Technologie

Um pul­ver- oder gra­nu­lat­för­mi­ge Füll­stof­fe und Addi­ti­ve bzw. geschnit­te­ne Glas­fa­sern pro­zess­si­cher in das Ver­fah­ren ein­zu­brin­gen, setzt Cope­ri­on bei Com­po­un­dier­pro­zes­sen die zwei­wel­li­ge Sei­ten­be­schi­ckung ZS‑B ein. Die­se ermög­licht die seit­li­che Dosie­rung der Zusatz­stof­fe ins Ver­fah­rens­teil des Dop­pel­schne­cken­ex­tru­ders. Sie zeich­net sich durch das selbst­rei­ni­gen­de Dicht­pro­fil der Dop­pel­schne­cken und die tot­raum­freie Pro­dukt­för­de­rung in die Schne­cken­gän­ge des Extru­ders aus. Die Sei­ten­be­schi­ckung ZS‑B ist mit der ent­wi­ckel­ten und paten­tier­ten Feed Enhan­ce­ment Tech­no­lo­gy (FET) aus­ge­stat­tet, die an der Ein­zugs­zo­ne über eine porö­se, gas­durch­läs­si­ge Wand ein Vaku­um anlegt. Die dadurch erreich­te Gas­ab­sau­gung stei­gert das Mate­ri­al-Auf­nah­me­ver­mö­gen bei der Ver­ar­bei­tung ein­zugs­be­grenz­ter Pro­duk­te um das bis zu Drei­fa­che. So wer­den deut­lich ver­bes­ser­te Ein­zugs- und Durch­satz­leis­tun­gen erzielt. Auch die Ver­wen­dung fei­ne­rer, nicht kom­pak­tier­ter Füll­stof­fe ist mit die­ser Tech­no­lo­gie möglich.

EPC für Differentialdosierer

Cope­ri­on K‑Tron prä­sen­tiert auf der Faku­ma die elek­tro­ni­sche Druck­kom­pen­sa­ti­on (EPC) für hoch­ge­naue Dif­fe­ren­ti­al­do­sie­rer. Ver­gli­chen mit her­kömm­li­chen mecha­ni­schen Druck­kom­pen­sa­ti­ons­sys­te­men führt das Sys­tem zu höhe­rer Genau­ig­keit und Zuver­läs­sig­keit sowie gerin­ge­ren Kos­ten bei zugleich ein­fa­cher Instal­la­ti­on. EPC ist eine effi­zi­en­te und den­noch ein­fa­che elek­tro­ni­sche Lösung für die zuver­läs­si­ge und kon­ti­nu­ier­li­che Druck­kom­pen­sa­ti­on im Dosier­trich­ter. Das modu­la­re Sys­tem basiert auf hoch­prä­zi­sen Druck­sen­so­ren und Elek­tronik­kom­po­nen­ten, die naht­los mit der KCM Dosie­rer­steue­rung zusam­men­ar­bei­ten. Für bestehen­de Dif­fe­ren­ti­al­do­sie­rer sind Nach­rüst­op­tio­nen erhält­lich. EPC lässt sich auf den meis­ten gra­vi­me­tri­schen Dif­fe­ren­ti­al­do­sie­rern von Cope­ri­on K‑Tron instal­lie­ren, für nahe­zu jede Anwen­dung und in allen Industriezweigen.
Cope­ri­on auf der Faku­ma 2018: Hal­le A6, Stand A6-6205

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Tags: CompoundierungCoperionFakumaK-TronKunststoffTitel-ThemaTop-Thema Chemie
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